CMP・洗浄

標準的なRCA洗浄におけるSC-1とSC-2の順序と目的の組み合わせとして正しいものはどれか。

  1. ASC-1でパーティクルや有機物を除去したあと、SC-2で金属汚染を除去する
  2. BSC-2でパーティクルを除去したあと、SC-1で金属汚染を除去する
  3. CSC-1とSC-2を混ぜて同時に使う
答えと解説を見る

正解:A. SC-1でパーティクルや有機物を除去したあと、SC-2で金属汚染を除去する

RCA洗浄では、まずアルカリ性のSC-1でパーティクルや有機物を除去し、次に酸性のSC-2で金属汚染を除去するのが基本的な順序です。必要に応じて、間に希フッ酸で酸化膜を除去する工程を入れます。各工程の間には純水でのリンスを行います。

この分野を解く 分野ページへ

CMP・洗浄のほかの問題

  1. 高アスペクト比のパターンを洗浄・乾燥するときに、パターンの倒れが起こる主な原因はどれか。
  2. タングステンのCMPで、スラリーに過酸化水素などの酸化剤を加える理由として正しいものはどれか。
  3. CMPの研磨量がチップ内のパターンの密度によって変わることへの、設計上の対策として正しいものはどれか。
  4. CMPスラリーの研磨粒子の大きさの目安として正しいものはどれか。
  5. 近年の洗浄工程で、薬液を希釈して使ったり、機能水を使ったりする主な目的はどれか。