オーバーレイ(重ね合わせ精度)とは
おーばーれい
前の工程でつくったパターンに対して、新しいパターンをどれだけ正確な位置に重ねられるか。ずれるとコンタクトが外れるなどの不良になるため、ナノメートル単位で管理する。
この用語の分野: リソグラフィ
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前の工程でつくったパターンに対して、新しいパターンをどれだけ正確な位置に重ねられるか。ずれるとコンタクトが外れるなどの不良になるため、ナノメートル単位で管理する。
この用語の分野: リソグラフィ
LSIは数十層のパターンを重ねてつくるため、各層を前の層に正確に位置合わせする必要があり、そのずれの小ささが重ね合わせ精度です。
リソグラフィにおける重ね合わせ(オーバーレイ)精度とは何か。重ね合わせ精度を測るため、チップの周辺のスクライブラインなどに、前の層と今の層のパターンを組み合わせた専用のマーク(ターゲット)をつくります。
重ね合わせ(オーバーレイ)のずれを計測するために、ウエハ上に設けるものはどれか。そのため非常に高い重ね合わせ精度が必要です。
LELE(リソ・エッチ・リソ・エッチ)方式のダブルパターニングで、特に厳しく求められるものはどれか。SADP(自己整合ダブルパターニング) EUV露光 位相シフトマスク ArFエキシマレーザー 液浸露光 OPC(光学近接効果補正) 開口数(NA) 化学増幅型レジスト 焦点深度(DOF) スキャナー