什麼是疊對精度
新圖案相對於前一步驟所製作圖案，能以多準確的位置疊合。一旦偏移就會造成接觸窗脫落等不良，因此以奈米為單位管控。
日文名稱: オーバーレイ(重ね合わせ精度)
「疊對精度」出現在3領域的4道練習題中（微影, 量測與分析, 無塵室與製造設備等）。
這個名詞所屬的領域: 微影
練習疊對精度的題目
微影中的疊對（overlay）精度是指什麼？
- A所塗佈光阻膜厚的均勻性
- B相對於前一道製程所做出的圖案，新圖案能被疊在多正確的位置上
- C曝光量的變異
在LELE（微影-蝕刻-微影-蝕刻）方式的雙重圖案化中，特別被嚴格要求的是下列何者？
- A光阻的顏色
- B曝光機的台數
- C第1次與第2次圖案的疊對精度
解析中的「疊對精度」
LSI是由數十層圖案堆疊而成，每一層都必須與前一層正確對位，其偏差的小程度就是疊對精度。
微影中的疊對（overlay）精度是指什麼？因此需要非常高的疊對精度。
在LELE（微影-蝕刻-微影-蝕刻）方式的雙重圖案化中，特別被嚴格要求的是下列何者？為了量測疊對精度，會在切割道等處製作結合前一層與當層圖案的專用標記。
為了量測疊對（overlay）的偏移，設置在晶圓上的是下列何者？曝光需要奈米等級的疊對精度，因此即使是些微的溫度變化也會造成位置偏移。
在潔淨室中，尤其是曝光區域，將溫度控制得非常嚴格且恆定的主要理由為何？
出現「疊對精度」的題目（4題）
相關名詞
光罩(Reticle) SADP(自對準雙重圖案化) 化學放大型光阻 正型光阻 光阻 光罩護膜 多重圖案化 抗反射底層膜(BARC) 奈米壓印微影 相位移光罩