位相シフトマスクとは
いそうしふとますく
隣り合う開口部を通る光の位相をずらし、光の干渉を利用して像のコントラストや解像度を高めるフォトマスク。
この用語の分野: リソグラフィ
いそうしふとますく
隣り合う開口部を通る光の位相をずらし、光の干渉を利用して像のコントラストや解像度を高めるフォトマスク。
この用語の分野: リソグラフィ
位相シフトマスクは、マスクの一部を通る光の位相を180°ずらし、隣り合うパターンからの光の境界で振幅を打ち消し合わせて、暗部をより暗くし、パターンの境界のコントラストを高めます。
位相シフトマスクの目的として正しいものはどれか。1990年代には0.6前後でしたが、変形照明、位相シフトマスク、OPCなどの超解像技術によって、量産でも0.27〜0.3程度まで下げられてきました。
解像度の式 R = k1 × λ / NA の係数k1についての説明として正しいものはどれか。開口数(NA) プロセスウィンドウ OPC(光学近接効果補正) EUV露光 ArFエキシマレーザー 液浸露光 オーバーレイ(重ね合わせ精度) 化学増幅型レジスト 焦点深度(DOF) スキャナー