リソグラフィ

微細なレジストパターンの側面に生じる、ナノメートル単位の凹凸を表す指標はどれか。

  1. A焦点深度(DOF)
  2. B開口数(NA)
  3. Cラインエッジラフネス(LER)
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正解：C. ラインエッジラフネス(LER)

LERは、パターンの側面(エッジ)のでこぼこの大きさを表す指標です。パターンが微細になるほど、数nmの凹凸でも線幅のばらつきとして無視できなくなり、トランジスタ特性のばらつきの原因になります。レジスト材料や露光量の確率的なゆらぎが原因の一つです。

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