CMP・洗浄

希フッ酸(DHF)による洗浄の主な目的はどれか。

  1. A有機物の除去
  2. B金属膜の成膜
  3. C自然酸化膜の除去
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正解：C. 自然酸化膜の除去

フッ酸はSiO2を溶かすため、希フッ酸による洗浄でシリコン表面の薄い自然酸化膜を取り除けます。処理後のシリコン表面は水素で終端され、撥水性になります。有機物やパーティクルの除去にはSC-1、金属汚染の除去にはSC-2が使われます。

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