希フッ酸で最後に洗浄したシリコン表面の状態として正しいものはどれか。

正解：A. 表面が水素で終端され、疎水性になる

希フッ酸で酸化膜を除去したシリコン表面は、水素原子で終端された状態になり、水をはじく疎水性になります。この表面は一時的に酸化が進みにくくなりますが、パーティクルが付着しやすい面もあるため、次の工程までの時間などを管理します。

• A. 正しい。水素終端されて疎水性になります。
• B. フッ酸の洗浄で金属に覆われることはありません。
• C. フッ酸は酸化膜を除去するので、酸化膜で覆われることはありません。