SC-1(APM)란?

えすしーわん

アンモニア水と過酸化水素水と水の混合液。RCA洗浄の最初に使い、表面をわずかにエッチングしながらパーティクルや有機物を除去する。

일본어 명칭: SC-1(APM)

SC-1(APM)은(는) CMP와 세정 등 1개 분야의 연습 문제 7개에 나와요.

분야: CMP와 세정

도전해 보기: SC-1(APM) 관련 문제

RCA 세정에서 사용되는 SC-1(암모니아·과산화수소수 혼합액)의 주된 목적은?

  1. A금속 오염 제거
  2. B파티클 및 유기물 제거
  3. C자연 산화막 제거
정답과 해설 보기

정답: B. 파티클 및 유기물 제거

SC-1(NH4OH:H2O2:H2O, 예: 1:1:5, 약 70 ℃)은 과산화수소로 표면을 산화시키면서 암모니아로 그 산화막을 분당 0.1~1 nm 정도로 천천히 녹여, 파티클을 아래에서부터 들어 올려 제거합니다. 알칼리성 용액에서는 입자와 표면이 모두 음으로 대전되어 서로 반발하므로 재부착도 잘 일어나지 않습니다. 유기물 제거에도 효과가 있습니다. 금속 오염 제거에는 SC-2를, 자연 산화막 제거에는 희석 불산을 사용합니다.

SC-1과 같은 알칼리성 세정액에서 한 번 떨어져 나간 파티클이 재부착되기 어려운 이유로 올바른 것은?

  1. A세정액의 점도가 매우 높기 때문
  2. B웨이퍼 표면과 입자가 같은 부호로 대전되어 서로 반발하기 때문
  3. C입자가 세정액에 녹아 사라지기 때문
정답과 해설 보기

정답: B. 웨이퍼 표면과 입자가 같은 부호로 대전되어 서로 반발하기 때문

알칼리성 용액에서는 실리콘 표면과 많은 입자(실리카, 질화물 등)의 표면이 모두 음으로 대전됩니다(제타 전위가 음이 됨). 같은 부호의 전하끼리는 서로 반발하므로, 표면에서 떨어진 입자가 다시 부착되기 어려워집니다. 반대로 산성 용액에서는 제타 전위의 부호가 입자마다 제각각이 되어 재부착이 일어나기 쉽습니다. 이는 SC-1이 파티클 제거에 효과적인 이유 중 하나입니다.

해설 속 SC-1(APM)

SC-1(APM)이(가) 나오는 문제 (7)

  1. RCA 세정에서 사용되는 SC-1(암모니아·과산화수소수 혼합액)의 주된 목적은?
  2. SC-1과 같은 알칼리성 세정액에서 한 번 떨어져 나간 파티클이 재부착되기 어려운 이유로 올바른 것은?
  3. 표준적인 RCA 세정에서 SC-1과 SC-2의 순서와 목적의 조합으로 올바른 것은?
  4. SC-1(암모니아·과산화수소수 혼합액)에서 과산화수소가 수행하는 역할로 올바른 것은?
  5. 희석 불산(DHF)을 이용한 세정의 주된 목적은?
  6. MHz 대역의 초음파를 세정액에 가하여 웨이퍼 표면의 미세한 파티클을 제거하는 세정 방법은?
  7. 세정으로 제거하는 대상인 웨이퍼 표면 오염의 종류 조합으로 올바른 것은?

관련 용어

SC-2(HPM) 希フッ酸(DHF) SPM(硫酸過水) 枚葉式洗浄 自然酸化膜 CMP RCA洗浄 エロージョン スラリー セリア(酸化セリウム)

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