什麼是RCA清洗
以SC-1(氨水與雙氧水)去除微粒與有機物,並以SC-2(鹽酸與雙氧水)去除金屬汙染的清洗方法。
日文名稱: RCA洗浄
「RCA清洗」出現在1領域的2道練習題中(CMP與清洗等)。
這個名詞所屬的領域: CMP與清洗
以SC-1(氨水與雙氧水)去除微粒與有機物,並以SC-2(鹽酸與雙氧水)去除金屬汙染的清洗方法。
日文名稱: RCA洗浄
「RCA清洗」出現在1領域的2道練習題中(CMP與清洗等)。
這個名詞所屬的領域: CMP與清洗
RCA清洗是1970年由RCA公司的Kern等人發表的方法,基本順序是先以鹼性的SC-1去除微粒與有機物,接著以酸性的SC-2(HCl:H2O2:H2O)將SC-1中容易附著的金屬汙染轉變為氯化物溶解而去除。
下列關於標準RCA清洗中SC-1與SC-2的順序與目的之組合,何者正確?SC-1(APM) SC-2(HPM) 稀釋氫氟酸(DHF) 原生氧化膜 超純水 兆聲波清洗 研磨液 研磨墊修整 氧化鈰(Ceria) 單晶圓清洗