對清洗液施加約1 MHz的超音波,以去除晶圓表面微粒的清洗方法。
日文名稱: メガソニック洗浄
這個名詞所屬的領域: CMP與清洗
研磨液 研磨墊修整 原生氧化膜 氧化鈰(Ceria) 單晶圓清洗 普勒斯頓方程式 稀釋氫氟酸(DHF) 圖案倒塌 碟形凹陷 CMP(化學機械研磨)
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