什麼是High-k/金屬閘極
高介電常數的閘極絕緣膜與金屬閘極電極的組合。可在抑制閘極漏電的同時確保閘極電容。
日文名稱: High-k/メタルゲート
「High-k/金屬閘極」出現在2領域的2道練習題中(SRAM與快閃記憶體, 新世代記憶體等)。
這個名詞所屬的領域: 先進電晶體(FinFET與GAA)
高介電常數的閘極絕緣膜與金屬閘極電極的組合。可在抑制閘極漏電的同時確保閘極電容。
日文名稱: High-k/メタルゲート
「High-k/金屬閘極」出現在2領域的2道練習題中(SRAM與快閃記憶體, 新世代記憶體等)。
這個名詞所屬的領域: 先進電晶體(FinFET與GAA)
然而浮動閘極的形成等製程步驟多,在 28 nm 前後之後的世代,以及與 High-k/金屬閘極的混載都很困難,因此正逐漸被可用較少製程步驟製作的 MRAM 與 ReRAM 取代。
為了儲存微控制器的程式,而一直與邏輯電路混載在同一晶片上的非揮發性記憶體是下列何者?嵌入式快閃記憶體因浮動閘極的形成等,需要追加 10 片以上的光罩,在 28 nm 前後之後的世代,以及與 High-k/金屬閘極的組合中,已難以實現。
MRAM 作為微控制器等的嵌入式非揮發性記憶體而受到矚目,其理由之一,下列何者正確?微控制器 非揮發性記憶體 浮動閘極 MRAM 更新(Refresh) ReRAM(電阻式記憶體) 光罩(Reticle) 磁性穿隧接面(MTJ) 晶圓代工廠 奈米片