長チャネルのMOSFETが飽和領域で動作しているとき、ドレイン電流IDはおよそ何に比例するか。(VGS:ゲート-ソース間電圧、Vth:しきい値電圧)
- A(VGS − Vth)の2乗
- BVGS − Vth
- CVGSの逆数
nチャネルMOSFETのドレイン電流を、長チャネルの2乗則にチャネル長変調を加えたモデルで計算し、ID–VDS特性の曲線群として描きます。VGSとVDSで決まる動作点が、遮断・線形・飽和のどの領域にあるか、そのときのドレイン電流や小信号パラメータもすぐに分かります。
太い線が入力したVGSの曲線、細い線はそれより低いVGSの曲線です。破線は線形領域と飽和領域の境界(VDS = VGS − Vth)です。しきい値以下の小さな電流(サブスレッショルド電流)や、短チャネル効果による速度飽和は含めていません。
ほかの入力は今の値のまま、選んだ入力だけを今の値の1/4〜4倍の範囲で変えたときの結果です。赤い点が今の値です。
長チャネルのnMOSFETでは、VGSがしきい値電圧Vthを超えるとチャネルができて電流が流れます。VDSが小さい線形(三極管)領域では ID = µnCox(W/L)[(VGS − Vth)VDS − VDS²/2] で、VDSに比例する抵抗のように振る舞います。VDSがオーバードライブ電圧 VGS − Vth を超えるとドレイン端でチャネルがピンチオフし、飽和領域では ID = (1/2)µnCox(W/L)(VGS − Vth)² と、VDSにほとんどよらない電流になります。
実際には、飽和領域でもVDSを上げるとピンチオフ点がソース側へ動き、実効的なチャネル長が短くなるため、電流がわずかに増えます。これをチャネル長変調と呼び、ID に (1 + λVDS) を掛けて表します。この傾きから小信号の出力抵抗は ro ≈ 1/(λID) となり、増幅回路の利得 gm·ro を決めます。チャネル長が短いほどλは大きく、roは小さくなるので、アナログ回路では長めのチャネルを使うことがよくあります。
飽和領域でのゲート電圧に対する電流の変化率 gm は、gm = µnCox(W/L)(VGS − Vth) = 2ID/(VGS − Vth) です。同じ電流でもオーバードライブ電圧を小さくするとgmは大きくなりますが、そのぶん素子を大きく(W/Lを大きく)する必要があり、動作できる電圧の余裕も変わります。例えば既定値の Vth = 0.5 V、µnCox = 200 µA/V²、W/L = 10、λ = 0.05 /V、VGS = 1.5 V、VDS = 1.2 V では、ID ≈ 1.06 mA、gm ≈ 2.1 mS、ro ≈ 19 kΩ で、gm·ro は約40です。
2乗則は長チャネルの素子を前提にした近似です。最先端の短チャネルの素子では、強い電界でキャリアの速度が飽和するため、電流は (VGS − Vth) の2乗より1乗に近い依存になります。また、しきい値以下でも電流はゼロではなく、ゲート電圧に対して指数関数的に変化するサブスレッショルド電流が流れ、室温では電流を1桁変えるのに少なくとも約60 mVが必要です。回路設計では、こうした効果を含むBSIMなどの詳しいモデルでシミュレーションします。
nMOSFETでは、VGS > Vth でチャネルができ、さらに VDS ≥ VGS − Vth であれば飽和領域です。VDSがそれより小さいと線形(三極管)領域になります。
違います。MOSFETの飽和領域は電流がVDSにほとんどよらない領域で、増幅に使います。バイポーラトランジスタの飽和はスイッチとして完全にオンした状態で、MOSFETではむしろ線形領域に近い状態です。
飽和領域では、チャネル長変調係数λとドレイン電流IDを使って ro ≈ 1/(λID) で見積もります。例えば λ = 0.05 /V、ID = 1 mA なら ro は約20 kΩです。