RTP(急速熱処理)とは
あーるてぃーぴー
ランプなどでウエハを1枚ずつ、数秒程度の短時間で高温に加熱する熱処理。不純物の余分な拡散を抑えながら、アニールや薄い酸化膜の形成ができる。
この用語の分野: 酸化・拡散
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ランプなどでウエハを1枚ずつ、数秒程度の短時間で高温に加熱する熱処理。不純物の余分な拡散を抑えながら、アニールや薄い酸化膜の形成ができる。
この用語の分野: 酸化・拡散
最近は、水素やアルゴン中のアニールや急速熱処理でこの構造をつくるウエハも使われます。
ウエハを熱処理して表面付近の酸素を外に拡散させ、デバイスをつくる表面に欠陥の少ない層をつくる。この層を何と呼ぶか。数秒の短い熱処理が必要な場合は、ランプで1枚ずつ加熱するRTP装置が使われます。
多数のウエハを一度に熱酸化するときに一般的に使われる装置はどれか。RTPは、ハロゲンランプなどでウエハを毎秒数十〜数百℃の速さで加熱・冷却する熱処理で、1000 ℃以上の温度に数秒だけさらせます。
ランプなどでウエハを1枚ずつ、数秒程度の短時間で高温に加熱する熱処理を何と呼ぶか。アニール 酸素析出物(BMD) DZ(無欠陥層) ゲッタリング 熱酸化 レーザーアニール ウェット酸化 STI(シャロートレンチ分離) 界面準位 可動イオン