什麼是RTP(快速熱處理)
以燈管等逐片在數秒左右的短時間內將晶圓加熱至高溫的熱處理。可在抑制雜質多餘擴散的同時,進行退火與薄氧化膜的形成。
日文名稱: RTP(急速熱処理)
「RTP(快速熱處理)」出現在2領域的3道練習題中(氧化與擴散, 矽晶圓等)。
這個名詞所屬的領域: 氧化與擴散
以燈管等逐片在數秒左右的短時間內將晶圓加熱至高溫的熱處理。可在抑制雜質多餘擴散的同時,進行退火與薄氧化膜的形成。
日文名稱: RTP(急速熱処理)
「RTP(快速熱處理)」出現在2領域的3道練習題中(氧化與擴散, 矽晶圓等)。
這個名詞所屬的領域: 氧化與擴散
近年也使用在氫或氬氣中退火,或以快速熱處理做出這種結構的晶圓。
對晶圓進行熱處理,使表面附近的氧向外擴散,在要製作元件的表面形成缺陷少的層。這一層稱為什麼?若需要數秒的短時間熱處理,則使用以燈管逐片加熱的 RTP 設備。
要一次對大量晶圓進行熱氧化時,通常使用何種設備?RTP 是以鹵素燈等將晶圓以每秒數十至數百 ℃ 的速度加熱、冷卻的熱處理,可使晶圓僅暴露於 1000 ℃ 以上的溫度數秒。
以燈管等逐片將晶圓在數秒左右的短時間內加熱至高溫的熱處理稱為什麼?退火 氧析出物(BMD) DZ(無缺陷區) 熱氧化 雷射退火 可動離子 合成氣體退火 界面能態 氧化增強擴散(OED) 乾式氧化