DZ(無欠陥層)とは
でぃーぜっと
熱処理で表面付近の酸素を外に拡散させ、ウエハの表面に作る酸素析出物などの欠陥が少ない層。デバイスはこの層につくり、内部の析出物はゲッタリングに使う。
この用語の分野: シリコンウエハ
でぃーぜっと
熱処理で表面付近の酸素を外に拡散させ、ウエハの表面に作る酸素析出物などの欠陥が少ない層。デバイスはこの層につくり、内部の析出物はゲッタリングに使う。
この用語の分野: シリコンウエハ
ただし表面近くにあるとリークの原因になるため、表面には無欠陥層を残します。
CZウエハの内部で、酸素が析出してできる微小な欠陥(BMD)を利用する目的として正しいものはどれか。1100 ℃以上の高温で熱処理して表面付近の酸素を外に拡散させると、表面には酸素析出物のない無欠陥層(DZ:Denuded Zone)が数十µmできます。
ウエハを熱処理して表面付近の酸素を外に拡散させ、デバイスをつくる表面に欠陥の少ない層をつくる。この層を何と呼ぶか。酸素析出物(BMD) ゲッタリング アニール RTP(急速熱処理) インゴット ウエハのノッチ SOIウエハ FZ法(フローティングゾーン法) MCZ法(磁場印加CZ法) 結晶方位