レーザーアニールとは
れーざーあにーる
レーザー光でウエハの表面付近だけを極めて短い時間加熱する熱処理。拡散をほとんど起こさずに高い活性化が得られる。
この用語の分野: イオン注入
れーざーあにーる
レーザー光でウエハの表面付近だけを極めて短い時間加熱する熱処理。拡散をほとんど起こさずに高い活性化が得られる。
この用語の分野: イオン注入
レーザーアニールでは、レーザー光で表面付近だけをマイクロ秒〜ナノ秒程度の極めて短い時間で1000 ℃以上(条件によっては融点近く)にします。
レーザーアニールの特徴として正しいものはどれか。さらに加熱時間をミリ秒以下に縮めたフラッシュランプアニールやレーザーアニールも、先端の浅い接合の形成に使われています。
ランプなどでウエハを1枚ずつ、数秒程度の短時間で高温に加熱する熱処理を何と呼ぶか。不純物が拡散しすぎないよう、ランプで数秒加熱するRTAや、ミリ秒以下のフラッシュランプ・レーザーアニールが使われます。
イオン注入後にアニール(熱処理)を行う主な目的として正しいものはどれか。アニール IGBT RTP(急速熱処理) イオン注入 ドナー アクセプタ スパイクアニール 過渡増速拡散(TED) 固溶度 シャドウイング