イオン注入

レーザーアニールの特徴として正しいものはどれか。

  1. Aウエハ全体を長時間均一に加熱する
  2. B低温でゆっくり加熱する
  3. Cウエハの表面付近だけを極めて短い時間加熱でき、拡散を抑えながら高い活性化が得られる
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正解:C. ウエハの表面付近だけを極めて短い時間加熱でき、拡散を抑えながら高い活性化が得られる

レーザーアニールでは、レーザー光で表面付近だけをマイクロ秒〜ナノ秒程度の極めて短い時間で高温にします。不純物がほとんど拡散しないうちに活性化できるため、浅く低抵抗な接合をつくれます。下の層をあまり加熱しないため、裏面の工程などにも使われます。

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