Eau dont on a éliminé au maximum les ions, particules et matières organiques. Utilisée en grande quantité pour le nettoyage des plaquettes, sa pureté est contrôlée notamment par sa résistivité.
Nom japonais: 超純水
« Eau ultrapure » apparaît dans 10 questions d'entraînement réparties sur 5 thèmes, dont CMP et nettoyage, Matériaux de procédé (gaz et produits chimiques), Environnement, santé et sécurité.
Réponse : C. Éliminer les composés organiques par décomposition oxydante
L'eau ozonée, contenant quelques ppm à quelques dizaines de ppm d'ozone dissous, possède un fort pouvoir oxydant et peut, à température ambiante, décomposer par oxydation les composés organiques ou former un oxyde mince à la surface du silicium. Se décomposant en oxygène après usage, elle facilite le traitement des effluents ; elle est utilisée comme nettoyage à faible impact environnemental, réduisant la consommation de produits et les émissions de CO2 par rapport au SPM, gros consommateur d'acide sulfurique et de peroxyde d'hydrogène. Elle est aussi employée en alternance avec l'acide fluorhydrique dilué.
Réponse : B. La résistivité
Moins l'eau contient d'ions dissous, moins elle conduit l'électricité : la pureté de l'eau ultrapure se contrôle donc par sa résistivité. La limite théorique, fixée par la seule autoprotolyse de l'eau, vaut environ 18,2 MΩ·cm à 25 ℃, et l'eau ultrapure pour semi-conducteurs est maintenue près de cette valeur. La résistivité ne réagissant pas aux contaminants non ioniques, on surveille aussi séparément le COT (carbone organique total), les particules, l'oxygène dissous, la silice, etc. au niveau du ppb. La couleur ou la viscosité ne révèlent pas les différences de pureté.
Moins l'eau contient d'ions dissous, moins elle conduit l'électricité : la pureté de l'eau ultrapure se contrôle donc par sa résistivité.
Quel est l'indicateur typique utilisé pour contrôler la pur…L'eau ultrapure est consommée en grandes quantités pour le nettoyage des plaquettes effectué à chaque étape, à commencer par le rinçage après nettoyage chimique.
Pour quel usage l'eau ultrapure est-elle consommée en plus …En lithographie à immersion, l'interstice d'environ 1 mm entre la lentille de projection et le wafer est rempli d'eau ultrapure, d'indice de réfraction (environ 1,44 à 193 nm) supérieur à celui de l'air (environ 1).
Quelle description de la lithographie ArF à immersion est c…Au besoin, un passage à l'acide fluorhydrique dilué retire l'oxyde entre les deux, et chaque étape est suivie d'un rinçage à l'eau ultrapure.
Quelle combinaison d'ordre et d'objectifs du SC-1 et du SC-…Le nettoyage classique utilisait de grandes quantités de produits concentrés ; on cherche désormais à obtenir l'effet nettoyant requis tout en réduisant la consommation de produits et d'eau ultrapure et les effluents, en diluant les produits de quelques dizaines à quelques centaines de fois ou en utilisant des eaux fonctionnelles comme l'eau ozonée ou hydrogénée, ou de l'eau électrolysée.
Dans les procédés de nettoyage récents, quel est le princip…Acide fluorhydrique dilué (DHF) SPM (mélange acide sulfurique-eau oxygénée) Rugosité de bord de ligne (LER) Lithographie à immersion Ouverture numérique (NA) SC-1 (APM) SC-2 (HPM) Nettoyage RCA Implantation ionique CMP