Méthode de nettoyage qui élimine les particules et les contaminants organiques avec SC-1 (ammoniaque et eau oxygénée) et la contamination métallique avec SC-2 (acide chlorhydrique et eau oxygénée).
Nom japonais: RCA洗浄
« Nettoyage RCA » apparaît dans 2 questions d'entraînement réparties sur 1 thèmes, dont CMP et nettoyage.
Domaine: CMP et nettoyage
Réponse : B. Éliminer les particules et les composés organiques
Le SC-1 (NH4OH:H2O2:H2O, par exemple 1:1:5, vers 70 ℃) oxyde la surface par le peroxyde d'hydrogène tout en dissolvant lentement cet oxyde par l'ammoniaque, à environ 0,1 à 1 nm par minute ; les particules sont ainsi soulevées par-dessous et éliminées. En milieu alcalin, particules et surface sont toutes deux chargées négativement et se repoussent, ce qui limite aussi la redéposition. Il est également efficace contre les composés organiques. La contamination métallique s'élimine par le SC-2, l'oxyde natif par l'acide fluorhydrique dilué.
Réponse : A. Le SC-1 élimine les particules et les composés organiques, puis le SC-2 élimine la contamination métallique
Le nettoyage RCA, publié en 1970 par Kern et ses collègues de la société RCA, élimine d'abord les particules et les composés organiques par le SC-1 alcalin, puis, par le SC-2 acide (HCl:H2O2:H2O), la contamination métallique qui tend à se déposer lors du SC-1, en la dissolvant sous forme de chlorures ; c'est l'ordre de base. Au besoin, un passage à l'acide fluorhydrique dilué retire l'oxyde entre les deux, et chaque étape est suivie d'un rinçage à l'eau ultrapure. Plus de 50 ans après, il reste, avec des améliorations, la base du nettoyage.
Le nettoyage RCA, publié en 1970 par Kern et ses collègues de la société RCA, élimine d'abord les particules et les composés organiques par le SC-1 alcalin, puis, par le SC-2 acide (HCl:H2O2:H2O), la contamination métallique qui tend à se déposer lors du SC-1, en la dissolvant sous forme de chlorures ; c'est l'ordre de base.
Quelle combinaison d'ordre et d'objectifs du SC-1 et du SC-…SC-1 (APM) SC-2 (HPM) Acide fluorhydrique dilué (DHF) Oxyde natif Eau ultrapure Cérine (oxyde de cérium) CMP Conditionnement du tampon (pad conditioning) Dishing Effondrement de motifs (pattern collapse)