CMP et nettoyage

Quel est le principal objectif de l'utilisation d'eau ultrapure ozonée pour le nettoyage ?

  1. ADéposer un film métallique
  2. BPolir la plaquette
  3. CÉliminer les composés organiques par décomposition oxydante
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Réponse : C. Éliminer les composés organiques par décomposition oxydante

L'eau ozonée, contenant quelques ppm à quelques dizaines de ppm d'ozone dissous, possède un fort pouvoir oxydant et peut, à température ambiante, décomposer par oxydation les composés organiques ou former un oxyde mince à la surface du silicium. Se décomposant en oxygène après usage, elle facilite le traitement des effluents ; elle est utilisée comme nettoyage à faible impact environnemental, réduisant la consommation de produits et les émissions de CO2 par rapport au SPM, gros consommateur d'acide sulfurique et de peroxyde d'hydrogène. Elle est aussi employée en alternance avec l'acide fluorhydrique dilué.

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