曝光部分在顯影時溶解而被去除的光阻。相反地,曝光部分會留下的則稱為負型光阻。
日文名稱: ポジ型フォトレジスト
這個名詞所屬的領域: 微影
化學放大型光阻 光阻 光罩(Reticle) 光罩護膜 多重圖案化 抗反射底層膜(BARC) 奈米壓印微影 相位移光罩 浸潤式微影 掃描式曝光機
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