High-NA EUV란?
はいえぬえーいーゆーぶい
投影光学系の開口数(NA)を従来のEUVの0.33から0.55に大きくし、解像度を高めた次世代のEUV露光装置。
일본어 명칭: High-NA EUV
분야: 포토리소그래피
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관련 용어
開口数(NA) 反射防止膜(BARC) 液浸露光 位相シフトマスク 焦点深度(DOF) 化学増幅型レジスト ArFエキシマレーザー EUV露光 OPC(光学近接効果補正) オーバーレイ(重ね合わせ精度)
はいえぬえーいーゆーぶい
投影光学系の開口数(NA)を従来のEUVの0.33から0.55に大きくし、解像度を高めた次世代のEUV露光装置。
일본어 명칭: High-NA EUV
분야: 포토리소그래피
開口数(NA) 反射防止膜(BARC) 液浸露光 位相シフトマスク 焦点深度(DOF) 化学増幅型レジスト ArFエキシマレーザー EUV露光 OPC(光学近接効果補正) オーバーレイ(重ね合わせ精度)