微影
目前的掃描式曝光機，一次曝光（1個曝光區）在晶圓上能曝光的最大區域大小，一般為下列何者？
- A整片晶圓（直徑300 mm）
- B約1 mm × 1 mm
- C約26 mm × 33 mm
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正確答案：C. 約26 mm × 33 mm
一般的掃描機是以1個曝光區曝光晶圓上約26 mm × 33 mm（約858 mm²）的區域，再一邊移動晶圓一邊重複，曝光整個表面。這個大小成為晶片最大尺寸的基準（倍縮光罩極限，reticle limit），大型GPU等幾乎用到了這個上限。需要超過這個大小時，則使用連接多個晶片的小晶片（chiplet）或封裝上的連接。High-NA EUV則是這個大小的一半。
- A. 並不是一次曝光整片晶圓。
- B. 約1 mm見方太小了。
- C. 正確。一般是約26 mm × 33 mm。