什麼是ALE(原子層蝕刻)

交替重複表面改質與去除反應,每個循環僅蝕刻去除約一個原子層之量的技術。可極精密地控制蝕刻量。

日文名稱: ALE(原子層エッチング)

「ALE(原子層蝕刻)」出現在1領域的1道練習題中(蝕刻等)。

這個名詞所屬的領域: 蝕刻

練習ALE(原子層蝕刻)的題目

關於原子層蝕刻(ALE)的特徵,下列何者正確?

  1. A單次處理即可高速蝕刻數µm
  2. B交替重複表面改質與去除,以原子層等級控制蝕刻量
  3. C是使用藥液的等向性濕式蝕刻
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正確答案:B. 交替重複表面改質與去除,以原子層等級控制蝕刻量

ALE重複進行自我限制性的步驟:先使表面僅一層藉由氯的吸附等方式反應而改質,再以低能量離子等僅將該層去除。由於每個循環蝕除的量固定為約0.1~0.5 nm,因此能以原子層等級精密控制,對表面的損傷也小,圖案疏密所造成的速率差異也較小。可說是ALD的蝕刻版,已開始用於GAA與閘極周邊的加工。

解析中的「ALE(原子層蝕刻)」

出現「ALE(原子層蝕刻)」的題目(1題)

  1. 關於原子層蝕刻(ALE)的特徵,下列何者正確?

相關名詞

ALD(原子層沉積) GAA(環繞式閘極) 天線效應 灰化 自由基 自偏壓 非等向性蝕刻 乾式蝕刻 深寬比 終點偵測

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