Low-k材料とは

解説の中の「Low-k材料」

• 配線間には逆に誘電率の低いLow-k材料を使います。

  シリコンの比誘電率に最も近い値はどれか。

• 逆に配線の間には、容量を減らすために比誘電率の小さいLow-k材料が使われます。

  「High-kゲート絶縁膜」のkが表すものはどれか。

• 逆に配線の間に使うLow-k材料は約3以下で、空気(約1)を含ませた多孔質膜やエアギャップも使われます。

  熱酸化で形成したSiO2膜の比誘電率に最も近い値はどれか。

「Low-k材料」が出てくる問題(5問)

1. シリコンの比誘電率に最も近い値はどれか。
2. 「High-kゲート絶縁膜」のkが表すものはどれか。
3. 熱酸化で形成したSiO2膜の比誘電率に最も近い値はどれか。
4. 隣り合う配線の間の容量結合によって、一方の信号の変化がもう一方の信号に雑音として現れる現象を何と呼ぶか。
5. 同じ層で隣り合う配線の間隔を半分にすると、その配線間の容量はおよそどうなるか。(平行平板として近似する)

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