プレーナ型MOSFETとFinFETの違い:業界が切り替えた理由
プレーナ型のMOSFETは、平らなチャネルの上にゲートがあり、ゲートは片側からだけチャネルを制御します。ゲート長が約20 nmより短くなると、ドレインがチャネルへ及ぼす影響が大きくなりすぎ、リーク電流や短チャネル効果が増えました。FinFETは、チャネルを細い縦のフィンに立ち上げ、ゲートが3方向から包むので、制御がはるかに強くなります。そのため、ロジックでは、22 nmや16/14 nmの世代から、プレーナ型からFinFETへ移りました。
| 項目 | プレーナ型MOSFET | FinFET |
|---|---|---|
| 構造 | ゲートが平らなチャネルの上にある | ゲートが、細い縦のシリコンのフィンの3面を包む |
| ゲートの制御 | 片側だけ。ゲート長が短いと弱い | 3方向から。はるかに強い |
| 短チャネル効果(DIBLなど) | 寸法が小さいと深刻 | 強く抑えられる |
| リーク電流 | 微細化したデバイスでは大きい | 小さい |
| サブスレッショルドスイング | 微細化とともに悪化する | 理想の約60 mV/decadeに近い |
| 占有面積あたりの駆動電流 | 小さい | 大きい。チャネル幅がフィンの両側面と上面を含む |
| チャネルのドーピング | 濃い。ランダムなドーパントのばらつきが起こる | 薄い、またはドーピングなし。ばらつきが小さい |
| 幅の調整 | 連続的。どんな幅でも描ける | 段階的。フィンの本数で決まる |
| 製造 | 簡単で安い | 複雑。フィンのパターニングと、立体的なゲートの形成 |
| 現在の使われ方 | 成熟したノード(28 nm以上)。アナログ、マイコン、RF、IoT | 16/14 nmから約3 nmまでの先端ロジック |
数値は代表的な目安で、世代や製品によって異なります。