P制御・PI制御・PID制御の違い:定常偏差・応答の速さ・オーバーシュート・調整を比較
どれも、目標値と制御量の差(偏差)eから操作量を決めるフィードバック制御で、使う項の数が違います。P制御は偏差に比例した操作量を出し、PI制御はそれに偏差の積分を、PID制御はさらに偏差の微分を加えます。P(比例)は応答の速さ、I(積分)は定常偏差の除去、D(微分)は行き過ぎや振動の抑制を受け持ちます。積分を含まない制御対象では、P制御だけだと偏差が残ります。PI制御で偏差はなくなりますが、位相が遅れて振動しやすくなり、Dを加えるとその振動を抑えられます。
| 項目 | P制御 | PI制御 | PID制御 |
|---|---|---|---|
| 操作量の式 | u = Kp·e | u = Kp·e + Ki∫e dt | u = Kp·e + Ki∫e dt + Kd·de/dt |
| ステップの目標値に対する定常偏差(積分を含まない対象) | 残る。一次遅れK/(Ts + 1)では1/(1 + K·Kp) | 0になる | 0になる |
| 応答の速さ | Kpを上げるほど速くなる | 積分ゲインKiを上げると立ち上がりは速くなるが、オーバーシュートが増える | Dで減衰が増すので、オーバーシュートを抑えながらゲインを上げやすい |
| オーバーシュートと振動 | Kpを上げすぎると振動的になり、遅れの大きな対象では不安定になる | 積分で位相が90°遅れるので、P制御より振動しやすい | 微分が偏差の変化を先回りして抑え、振動を減らす |
| シミュレーターでの例(むだ時間つき一次遅れK = 1、T = 10 s、L = 2 s、Kp = 4) | 定常偏差0.2、オーバーシュート約30% | Ki = 0.4で定常偏差0、オーバーシュート約30% | さらにKd = 4で定常偏差0、オーバーシュート約7% |
| 雑音への強さ | 雑音もKp倍される | 高い周波数でのゲインはKpで、P制御と同じ程度 | 微分は高い周波数ほど大きくするので、雑音を増幅する。ローパスフィルタを組み合わせた不完全微分にする |
| 操作量の飽和 | 積分がないので、上限に張り付いても巻き上がりは起きない | 上限に張り付いている間に積分がたまる積分ワインドアップが起こる。積分を止めるなどの対策が必要 | PI制御と同じく積分ワインドアップの対策が必要。目標値の急変による微分キックにも注意する |
| 調整するパラメータとジーグラ・ニコルスの限界感度法の目安 | Kpの1つ。Kp = 0.5Ku | KpとTi(またはKi)の2つ。Kp = 0.45Ku、Ti ≈ 0.83Tu | Kp、Ti、Tdの3つ。Kp = 0.6Ku、Ti = 0.5Tu、Td = 0.125Tu |
| 主な用途 | 少しの偏差を許せる制御、対象が積分を含む位置の制御(ステップに対する偏差は残らない) | 温度、流量、圧力、モータの速度、電源の電圧など。実際の制御ループではDを使わないPI制御が多い | 遅れが大きく、行き過ぎを抑えたい温度や位置の制御 |
数値は代表的な目安で、世代や製品によって異なります。