SC-2(HPM)란?

えすしーつー

塩酸と過酸化水素水と水の混合液。RCA洗浄でSC-1のあとに使い、金属汚染を除去する。

일본어 명칭: SC-2(HPM)

SC-2(HPM)은(는) CMP와 세정 등 1개 분야의 연습 문제 4개에 나와요.

분야: CMP와 세정

도전해 보기: SC-2(HPM) 관련 문제

표준적인 RCA 세정에서 SC-1과 SC-2의 순서와 목적의 조합으로 올바른 것은?

  1. ASC-1로 파티클과 유기물을 제거한 뒤, SC-2로 금속 오염을 제거한다
  2. BSC-2로 파티클을 제거한 뒤, SC-1로 금속 오염을 제거한다
  3. CSC-1과 SC-2를 섞어서 동시에 사용한다
정답과 해설 보기

정답: A. SC-1로 파티클과 유기물을 제거한 뒤, SC-2로 금속 오염을 제거한다

RCA 세정은 1970년 RCA사의 Kern 등이 발표한 방법으로, 먼저 알칼리성 SC-1로 파티클과 유기물을 제거하고, 이어서 산성 SC-2(HCl:H2O2:H2O)로 SC-1에서 부착되기 쉬운 금속 오염을 염화물로 녹여 제거하는 것이 기본 순서입니다. 필요에 따라 중간에 희석 불산으로 산화막을 제거하며, 각 공정 사이에는 초순수로 린스합니다. 50년 넘게 지난 지금도 세정의 기본으로 개량을 거듭하며 사용되고 있습니다.

해설 속 SC-2(HPM)

SC-2(HPM)이(가) 나오는 문제 (4)

  1. 표준적인 RCA 세정에서 SC-1과 SC-2의 순서와 목적의 조합으로 올바른 것은?
  2. RCA 세정에서 사용되는 SC-1(암모니아·과산화수소수 혼합액)의 주된 목적은?
  3. 희석 불산(DHF)을 이용한 세정의 주된 목적은?
  4. 세정으로 제거하는 대상인 웨이퍼 표면 오염의 종류 조합으로 올바른 것은?

관련 용어

SC-1(APM) 希フッ酸(DHF) SPM(硫酸過水) 枚葉式洗浄 自然酸化膜 CMP RCA洗浄 エロージョン スラリー セリア(酸化セリウム)

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