在LELE（微影-蝕刻-微影-蝕刻）方式的雙重圖案化中，特別被嚴格要求的是下列何者？

正確答案：C. 第1次與第2次圖案的疊對精度

在LELE中，是把細微圖案分成兩組，分別曝光、蝕刻，因此若第2次圖案相對於第1次產生偏移，相鄰線條的間隔就會改變該偏移量，直接關係到配線電容與短路。例如間隔20 nm時偏移2 nm，就是10%的變化。因此需要非常高的疊對精度。使用間隔層的SADP，其線條位置是自我對準決定的，所以這個問題較小。