CMP와 세정

RCA 세정에서 사용되는 SC-1(암모니아·과산화수소수 혼합액)의 주된 목적은?

  1. A금속 오염 제거
  2. B파티클 및 유기물 제거
  3. C자연 산화막 제거
정답과 해설 보기

정답: B. 파티클 및 유기물 제거

SC-1(NH4OH:H2O2:H2O, 예: 1:1:5, 약 70 ℃)은 과산화수소로 표면을 산화시키면서 암모니아로 그 산화막을 분당 0.1~1 nm 정도로 천천히 녹여, 파티클을 아래에서부터 들어 올려 제거합니다. 알칼리성 용액에서는 입자와 표면이 모두 음으로 대전되어 서로 반발하므로 재부착도 잘 일어나지 않습니다. 유기물 제거에도 효과가 있습니다. 금속 오염 제거에는 SC-2를, 자연 산화막 제거에는 희석 불산을 사용합니다.

이 분야 연습하기 분야로 돌아가기

CMP와 세정의 다른 문제

  1. CMP에서 발생하는 '디싱(dishing)'에 대한 설명으로 올바른 것은?
  2. 희석 불산(DHF)을 이용한 세정의 주된 목적은?
  3. CMP에 사용되는 슬러리에 대한 설명으로 올바른 것은?
  4. 황산과 과산화수소수의 혼합액(SPM)을 이용한 세정의 주된 목적은?
  5. CMP 후 세정에서 특히 제거해야 하는 것은?