氧化與擴散 以燈管等逐片將晶圓在數秒左右的短時間內加熱至高溫的熱處理稱為什麼？ A批次爐退火 BRTP（快速熱處理） CCMP 查看答案與解析 正確答案：B. RTP（快速熱處理） RTP 是以鹵素燈等將晶圓以每秒數十至數百 ℃ 的速度加熱、冷卻的熱處理，可使晶圓僅暴露於 1000 ℃ 以上的溫度數秒。由於高溫時間短，能在抑制雜質擴散的同時，進行佈植後的活化退火與薄氧化層的形成。此外，將加熱時間縮短到毫秒以下的閃光燈退火與雷射退火，也被用於先進淺接面的形成。