氧化與擴散

要一次對大量晶圓進行熱氧化時,通常使用何種設備?

  1. A直立式熱處理爐(擴散爐)
  2. B離子佈植機
  3. CCMP 設備
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正確答案:A. 直立式熱處理爐(擴散爐)

熱氧化、擴散與退火常使用直立式熱處理爐:將約 100 片晶圓垂直堆疊在石英反應管中加熱。管內溫度均勻,一次可處理大量晶圓,且晶圓由下方進出,也能減少捲入大氣。代表性的製造商有 Tokyo Electron 與 Kokusai Electric 等。若需要數秒的短時間熱處理,則使用以燈管逐片加熱的 RTP 設備。

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