什麼是氧化增強擴散(OED)
矽在氧化期間，硼與磷的擴散比未氧化時更快的現象。原因是氧化產生的間隙矽被注入矽中。
日文名稱: 酸化増速拡散(OED)
「氧化增強擴散(OED)」出現在1領域的1道練習題中（氧化與擴散等）。
這個名詞所屬的領域: 氧化與擴散
練習氧化增強擴散(OED)的題目
在氧化矽的期間，硼或磷的擴散比未氧化時更快的現象稱為什麼？
- A電致遷移
- B通道效應
- C氧化增強擴散（OED）
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正確答案：C. 氧化增強擴散（OED）
氧化進行時，介面上多出來的間隙矽會被注入矽中。硼和磷與間隙矽成對而容易擴散，因此在氧化期間擴散會加快數倍（氧化增強擴散，OED）。相反地，銻主要經由空缺擴散，所以當間隙矽增加時，空缺減少而變慢（氧化抑制擴散）。這項差異也成為研究擴散機制的線索。
解析中的「氧化增強擴散(OED)」
硼和磷與間隙矽成對而容易擴散，因此在氧化期間擴散會加快數倍（氧化增強擴散，OED）。
在氧化矽的期間，硼或磷的擴散比未氧化時更快的現象稱為什麼？