什麼是單晶圓清洗
逐片處理晶圓的清洗方式。晶圓之間不易發生交叉汙染，且容易逐片控制條件。一次將許多晶圓浸入藥液槽的方式則為批次式。
日文名稱: 枚葉式洗浄
這個名詞所屬的領域: CMP與清洗
相關名詞
兆聲波清洗 研磨液 研磨墊修整 原生氧化膜 氧化鈰(Ceria) 普勒斯頓方程式 稀釋氫氟酸(DHF) 圖案倒塌 碟形凹陷 CMP(化學機械研磨)
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