微影
關於正型光阻的說明，下列何者正確？
- A曝光的部分在顯影後會留下來
- B曝光的部分在顯影時溶解而被去除
- C不論是否曝光，顯影時都會全部溶解
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正確答案：B. 曝光的部分在顯影時溶解而被去除
正型光阻在曝光的部分會變得容易溶於顯影液，並在顯影時被去除，因此被光罩遮光的部分之圖案會留下來。具代表性的有i線用的酚醛樹脂（novolac）系，以及KrF、ArF用的化學放大型，並以鹼性顯影液（TMAH水溶液）進行顯影。由於解析度優異，目前是主流。曝光的部分會留下來的是負型，概念與照片的底片（負片）與正片相同。