製程材料(氣體與藥液)

光阻顯影一般使用的水溶液為下列何者?

  1. ATMAH(氫氧化四甲基銨)水溶液
  2. B鹽酸
  3. C氫氟酸
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正確答案:A. TMAH(氫氧化四甲基銨)水溶液

正型光阻的顯影,以TMAH的2.38%水溶液(約0.26 N)作為業界標準。因曝光而變得易溶於鹼的部分會被溶解,圖案隨之顯現。藉由統一濃度,使任何工廠的顯影速度都容易重現。鹽酸或氫氟酸是酸,沒有使光阻顯影的作用。另外也有以有機溶劑溶解未曝光部分的負型顯影方式。

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