什麼是缺陷檢測設備

找出晶圓上的異物或圖案缺陷的設備。有偵測照光時散射光的方式,以及比對相鄰晶粒影像的方式等。

日文名稱: 欠陥検査装置

「缺陷檢測設備」出現在1領域的3道練習題中(量測與分析等)。

這個名詞所屬的領域: 量測與分析

練習缺陷檢測設備的題目

偵測晶圓上異物或圖案缺陷的缺陷檢測設備,所使用的代表性原理是下列何者?

  1. A偵測照光時的散射光,或比對相鄰晶粒(die)的影像
  2. B晶圓重量的變化
  3. C敲擊晶圓時的聲音
查看答案與解析

正確答案:A. 偵測照光時的散射光,或比對相鄰晶粒(die)的影像

有異物時照射的光會散射,因此偵測散射光即可發現異物。圖案缺陷則是與具有相同圖案的相鄰晶粒影像比較,將有差異之處視為缺陷。比較兩個晶粒無法判定哪一個有問題,所以會比較三個晶粒,以多數決來判定。偵測到的缺陷以檢視用SEM(review SEM)詳細觀察並分類。重量或聲音無法得知缺陷。

在晶圓缺陷檢測設備中,與直接觀察圖案影像的明視野方式相比,僅捕捉散射光的暗視野方式,其特徵下列何者正確?

  1. A能以高靈敏度偵測來自異物等的散射光,容易高速檢測廣大範圍
  2. B解析度必定比明視野高
  3. C無法偵測異物
查看答案與解析

正確答案:A. 能以高靈敏度偵測來自異物等的散射光,容易高速檢測廣大範圍

暗視野方式不接收正反射的光,只捕捉被異物或缺陷散射的光,因此背景暗、小異物明亮地浮現,可高速檢測廣大範圍。明視野方式以反射光直接擷取圖案的影像,擅長偵測圖案形狀的缺陷,但檢測較慢。因此異物的監控使用暗視野,新製程的詳細評估則使用明視野,加以區分運用。

解析中的「缺陷檢測設備」

出現「缺陷檢測設備」的題目(3題)

  1. 偵測晶圓上異物或圖案缺陷的缺陷檢測設備,所使用的代表性原理是下列何者?
  2. 在晶圓缺陷檢測設備中,與直接觀察圖案影像的明視野方式相比,僅捕捉散射光的暗視野方式,其特徵下列何者正確?
  3. 以SEM拍攝檢測中發現的缺陷,並由該影像自動分類缺陷種類的功能是下列何者?

相關名詞

SEM(掃描式電子顯微鏡) ATPG(自動測試向量產生) APC(先進製程控制) 四點探針法 橢圓偏光術 AFM(原子力顯微鏡) CD-SEM(臨界尺寸掃描式電子顯微鏡) EDX(能量色散X射線光譜) FIB(聚焦離子束) SIMS(二次離子質譜法)

前往名詞解釋列表