什麼是氣隙
使導線間絕緣膜的一部分成為空腔的技術。由於空氣的相對介電常數幾乎為1,可大幅降低導線間電容。
日文名稱: エアギャップ
「氣隙」出現在1領域的1道練習題中(先進電晶體(FinFET與GAA)等)。
這個名詞所屬的領域: 配線製程
使導線間絕緣膜的一部分成為空腔的技術。由於空氣的相對介電常數幾乎為1,可大幅降低導線間電容。
日文名稱: エアギャップ
「氣隙」出現在1領域的1道練習題中(先進電晶體(FinFET與GAA)等)。
這個名詞所屬的領域: 配線製程
因此,接觸材料的改良、氣隙與低介電常數間隔物、從背面供電等本徵部分以外的改良,成為提升性能的重心。
在微縮進展的電晶體中,作為限制性能之因素而日趨重要的是什麼?導通電阻 背面供電 多層金屬導線 串擾 低介電常數材料(Low-k) 矽化物 阻障金屬 保護層(Passivation) 接觸窗 晶種層