サーマルドナーとは
さーまるどなー
CZシリコンを450℃付近で熱処理したとき、酸素原子が集まってドナーとして働くもの。ウエハの抵抗率を変えてしまうため、高温の処理で消去する。
この用語の分野: シリコンウエハ
さーまるどなー
CZシリコンを450℃付近で熱処理したとき、酸素原子が集まってドナーとして働くもの。ウエハの抵抗率を変えてしまうため、高温の処理で消去する。
この用語の分野: シリコンウエハ
酸素は転位を固着して結晶の機械的強度を高め、熱処理でできる析出物がゲッタリングサイトとして働く利点がある一方、多すぎると欠陥やサーマルドナーの原因になります。
CZ法で育成したシリコン結晶に、るつぼから比較的多く取り込まれる不純物はどれか。この酸素は熱処理で析出してゲッタリングに役立ち、転位を固着してウエハを強くする一方、多すぎると欠陥やサーマルドナーの原因になります。
CZ法で育成したシリコン結晶に含まれる格子間酸素の濃度の目安として最も近いものはどれか。格子間酸素を含むCZシリコンを350〜500 ℃で熱処理すると、酸素原子が数個集まった集合体ができ、電子を放出するドナーとして働きます(サーマルドナー)。
CZシリコンを450℃付近で熱処理すると、酸素原子が集まってドナーとして働き、ウエハの抵抗率が変わることがある。これを…CZ法(チョクラルスキー法) MCZ法(磁場印加CZ法) ゲッタリング ドナー インゴット ウエハのノッチ SOIウエハ FZ法(フローティングゾーン法) 結晶方位 酸素析出物(BMD)