シリコンウエハ

CZ法で育成したシリコン結晶に含まれる格子間酸素の濃度の目安として最も近いものはどれか。

  1. A約10¹⁸ cm⁻³
  2. B約10²³ cm⁻³
  3. C約10¹⁰ cm⁻³
答えと解説を見る

正解:A. 約10¹⁸ cm⁻³

CZ結晶には、石英るつぼから溶け出した酸素がおよそ10¹⁷〜10¹⁸ cm⁻³(数〜十数ppma)含まれます。この酸素は熱処理で析出してゲッタリングに役立つ一方、多すぎると欠陥の原因にもなるため、濃度が管理されます。

  • A. 正しい。10¹⁷〜10¹⁸ cm⁻³程度が目安です。
  • B. 約10²³ cm⁻³はシリコンの原子密度(約5×10²² cm⁻³)より大きく、ありえません。
  • C. 約10¹⁰ cm⁻³は真性キャリア密度程度の値で、酸素濃度としては小さすぎます。
この分野を解く 分野ページへ

シリコンウエハのほかの問題

  1. シリコンウエハの鏡面研磨(CMPによる仕上げ研磨)で、研磨液の砥粒として一般的に使われるものはどれか。
  2. ヒ素やアンチモンを高濃度に添加した低抵抗のn⁺シリコンウエハの主な用途として正しいものはどれか。
  3. CZシリコンを450℃付近で熱処理すると、酸素原子が集まってドナーとして働き、ウエハの抵抗率が変わることがある。これを何と呼ぶか。
  4. ウエハ表面の金属汚染を高感度に分析するため、フッ酸の蒸気で表面の酸化膜を溶かし、液滴で回収して分析装置にかける前処理の方法はどれか。
  5. ウエハの表面にある、波長が数mm程度の非常にゆるやかで高さ数十nm程度の凹凸を何と呼ぶか。