シリコンウエハ

CZシリコンを450℃付近で熱処理すると、酸素原子が集まってドナーとして働き、ウエハの抵抗率が変わることがある。これを何と呼ぶか。

  1. Aゲッタリングサイト
  2. Bサーマルドナー
  3. Cディープアクセプタ
答えと解説を見る

正解:B. サーマルドナー

格子間酸素を含むCZシリコンを350〜500℃程度で熱処理すると、酸素の小さな集合体ができ、電子を放出するドナーとして働きます。これをサーマルドナーといい、特に低濃度のp型ウエハでは抵抗率が大きく変わったり、n型に反転したりします。650℃程度以上の熱処理で消すことができます。

  • A. ゲッタリングサイトは不純物を捕らえる場所のことです。
  • B. 正しい。酸素の集合体がドナーとして働く現象です。
  • C. アクセプタではなくドナーとして働きます。
この分野を解く 分野ページへ

シリコンウエハのほかの問題

  1. ウエハ表面の金属汚染を高感度に分析するため、フッ酸の蒸気で表面の酸化膜を溶かし、液滴で回収して分析装置にかける前処理の方法はどれか。
  2. ウエハの表面にある、波長が数mm程度の非常にゆるやかで高さ数十nm程度の凹凸を何と呼ぶか。
  3. CZシリコンに含まれる格子間酸素が、FZシリコンに比べてウエハの機械的強度に与える影響として正しいものはどれか。
  4. CZ結晶の育成中に窒素を微量に添加する(窒素ドープ)ことの効果として知られているものはどれか。
  5. シリコン結晶中の転位や積層欠陥などを光学顕微鏡で観察できるようにするため、欠陥の部分を選択的に浅くエッチングする方法はどれか。