プロセスウィンドウとは
ぷろせすうぃんどう
露光量とフォーカスを変えても、パターンの寸法が許容範囲に収まる条件の範囲。広いほど製造のばらつきに強い。
この用語の分野: リソグラフィ
解説の中の「プロセスウィンドウ」
k1はレジストの性能、マスクの工夫、照明条件などの総合力を表す係数で、小さいほど細かいパターンを解像できる一方、プロセスウィンドウが狭くなり難しくなります。
解像度の式 R = k1 × λ / NA の係数k1についての説明として正しいものはどれか。プロセスウィンドウは、露光量とフォーカスを変えてもパターンの寸法が許容範囲(例えば狙いの±10%)に収まる範囲で、縦軸に露光量、横軸にフォーカスをとった図(ED-window)で表します。
露光量とフォーカスを変えても、パターンの寸法が許容範囲内に収まる条件の範囲を何と呼ぶか。SMO(Source Mask Optimization)は、露光装置の照明の形(瞳面での光源の分布)と、OPCを含むマスクのパターンを計算機で一緒に最適化して、プロセスウィンドウを広げる技術です。
露光装置の照明の形とマスクのパターンを、計算機で同時に最適化して解像性を高める技術はどれか。
「プロセスウィンドウ」が出てくる問題(3問)
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