プロセスウィンドウ란?
ぷろせすうぃんどう
露光量とフォーカスを変えても、パターンの寸法が許容範囲に収まる条件の範囲。広いほど製造のばらつきに強い。
일본어 명칭: プロセスウィンドウ
분야: 포토리소그래피
ぷろせすうぃんどう
露光量とフォーカスを変えても、パターンの寸法が許容範囲に収まる条件の範囲。広いほど製造のばらつきに強い。
일본어 명칭: プロセスウィンドウ
분야: 포토리소그래피
開口数(NA) 反射防止膜(BARC) 液浸露光 位相シフトマスク 焦点深度(DOF) 化学増幅型レジスト ArFエキシマレーザー EUV露光 High-NA EUV OPC(光学近接効果補正)