プロセスウィンドウ란?

ぷろせすうぃんどう

露光量とフォーカスを変えても、パターンの寸法が許容範囲に収まる条件の範囲。広いほど製造のばらつきに強い。

일본어 명칭: プロセスウィンドウ

분야: 포토리소그래피

관련 용어

開口数(NA) 反射防止膜(BARC) 液浸露光 位相シフトマスク 焦点深度(DOF) 化学増幅型レジスト ArFエキシマレーザー EUV露光 High-NA EUV OPC(光学近接効果補正)

용어집으로 돌아가기