リソグラフィ

露光装置の照明の形とマスクのパターンを、計算機で同時に最適化して解像性を高める技術はどれか。

  1. ASMO(ソース・マスク最適化)
  2. BCMP
  3. CALD
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正解：A. SMO(ソース・マスク最適化)

SMO(Source Mask Optimization)は、露光装置の照明の形(光源の分布)と、OPCを含むマスクのパターンを一緒に最適化して、プロセスウィンドウを広げる技術です。さらにマスクの形を自由な曲線で逆算するILT(逆リソグラフィ技術)も使われるようになっています。

  • A. 正しい。照明とマスクを同時に最適化します。
  • B. CMPは研磨で平坦化する工程です。
  • C. ALDは原子層ずつ膜をつける成膜技術です。
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