マグネトロンスパッタリング란?
まぐねとろんすぱったりんぐ
ターゲットの裏側に磁石を置き、磁場で電子をターゲット近くに閉じ込めてプラズマ密度を高めるスパッタリング。成膜速度が上がり、現在のスパッタ装置の主流。
일본어 명칭: マグネトロンスパッタリング
분야: 박막 증착(CVD와 PVD)
관련 용어
領域選択成膜 反応性スパッタリング 電解めっき 真空蒸着 静電チャック ALD CVD HDP-CVD(高密度プラズマCVD) LPCVD(減圧CVD) PECVD(プラズマCVD)
まぐねとろんすぱったりんぐ
ターゲットの裏側に磁石を置き、磁場で電子をターゲット近くに閉じ込めてプラズマ密度を高めるスパッタリング。成膜速度が上がり、現在のスパッタ装置の主流。
일본어 명칭: マグネトロンスパッタリング
분야: 박막 증착(CVD와 PVD)
領域選択成膜 反応性スパッタリング 電解めっき 真空蒸着 静電チャック ALD CVD HDP-CVD(高密度プラズマCVD) LPCVD(減圧CVD) PECVD(プラズマCVD)