LDD構造とは
えるでぃーでぃーこうぞう
Lightly Doped Drain の略。ドレインのゲート側の端だけ不純物濃度を低くして電界を緩和し、ホットキャリアによる劣化を抑える構造。
この用語の分野: MOSFET
えるでぃーでぃーこうぞう
Lightly Doped Drain の略。ドレインのゲート側の端だけ不純物濃度を低くして電界を緩和し、ホットキャリアによる劣化を抑える構造。
この用語の分野: MOSFET
LDD構造では、ゲート側壁(サイドウォール)を使ってドレインのチャネル側に低濃度の浅い領域を作り、ピーク電界を下げて劣化を抑えます。
MOSFETのLDD(Lightly Doped Drain)構造の目的として正しいものはどれか。LDD構造や電源電圧の低減で抑えます。
ドレイン近くの高電界で加速されたキャリアがゲート絶縁膜に注入され、トランジスタの特性が劣化する現象はどれか。界面準位 しきい値電圧 短チャネル効果 貫通電流 基板バイアス効果 サブスレッショルドスイング GIDL(ゲート誘起ドレインリーク) CMOS 相互コンダクタンス 速度飽和