Slijpdeeltjes die in CMP-slurry's worden gebruikt. Reageren gemakkelijk chemisch met oxide en geven een hoge selectiviteit ten opzichte van nitride, dus worden gebruikt voor CMP van STI.
Japanse benaming: セリア(酸化セリウム)
“Ceria (ceriumoxide)” komt voor in 3 oefenvragen uit 1 onderwerpen, bijv. CMP en reiniging.
Vakgebied: CMP en reiniging
Antwoord: A. Een polijstvloeistof waarin schuurdeeltjes zoals silica of ceria zijn gedispergeerd in een chemische oplossing
Slurry is een vloeistof waarin schuurdeeltjes van enkele tientallen tot ruim honderd nm, zoals silica (SiO2), ceria (CeO2) en aluminiumoxide, zijn gedispergeerd in een chemische oplossing met oxidatiemiddel, pH-regelaar, corrosie-inhibitor en dispergeermiddel. Deeltjes en chemie worden gekozen naar de te polijsten film, bijvoorbeeld silica of ceria voor oxidefilms en silicagebaseerde slurry met oxidatiemiddel voor wolfraam en koper. Het is een groot deel van de kosten van de verbruiksmaterialen voor CMP, en een gebied waarin Japanse bedrijven sterk zijn.
Antwoord: A. Ceria (ceriumoxide)
Ceria (ceriumoxide) bindt chemisch met oxidefilm en polijst die efficiënt, terwijl additieven (oppervlakteactieve stoffen zoals aminozuren) op het nitrideoppervlak adsorberen en het polijsten daar onderdrukken, zodat de polijstselectiviteit van oxide ten opzichte van nitride kan oplopen tot enkele tientallen tot meer dan 100. Het wordt gebruikt om bij STI-CMP, waarbij nitridefilm als stopper dient, vlakheid te combineren met het gemakkelijk stoppen van het polijsten. Kenmerkend is ook dat met weinig deeltjes snel kan worden gepolijst.
Slurry is een vloeistof waarin schuurdeeltjes van enkele tientallen tot ruim honderd nm, zoals silica (SiO2), ceria (CeO2) en aluminiumoxide, zijn gedispergeerd in een chemische oplossing met oxidatiemiddel, pH-regelaar, corrosie-inhibitor en dispergeermiddel.
Welke uitspraak over de slurry die bij CMP wordt gebruikt i…Ceria (ceriumoxide) bindt chemisch met oxidefilm en polijst die efficiënt, terwijl additieven (oppervlakteactieve stoffen zoals aminozuren) op het nitrideoppervlak adsorberen en het polijsten daar onderdrukken, zodat de polijstselectiviteit van oxide ten opzichte van nitride kan oplopen tot enkele tientallen tot meer dan 100.
Welk schuurdeeltje wordt bij het CMP van STI-vorming vaak g…Bij CMP met vaste schuurkorrels wordt een pad gebruikt waarin schuurdeeltjes zoals ceria in hars zijn vastgezet, en wordt gepolijst met alleen een chemische oplossing zonder deeltjes.
Welke vorm van CMP laat de schuurdeeltjes niet in de slurry…CMP Slurry STI (shallow trench isolation) Contact Dishing Erosie (erosion) Megasonisch reinigen Natuurlijk oxide (native oxide) Padconditionering Patroonineenstorting (pattern collapse)