Particules abrasives utilisées dans les suspensions de CMP. Elles réagissent facilement avec l'oxyde et offrent une forte sélectivité par rapport au nitrure ; utilisées pour la CMP STI.
Nom japonais: セリア(酸化セリウム)
« Cérine (oxyde de cérium) » apparaît dans 3 questions d'entraînement réparties sur 1 thèmes, dont CMP et nettoyage.
Domaine: CMP et nettoyage
Réponse : A. Un liquide de polissage dans lequel des particules abrasives comme la silice ou l'oxyde de cérium sont dispersées dans une solution chimique
La suspension est une dispersion de particules abrasives de quelques dizaines à une centaine de nm et plus (silice (SiO2), oxyde de cérium (CeO2), alumine, etc.) dans une solution contenant oxydants, ajusteurs de pH, inhibiteurs de corrosion, dispersants, etc. Les particules et la composition chimique sont choisies selon le film à polir : silice ou oxyde de cérium pour les oxydes, suspensions à base de silice avec oxydant pour le tungstène et le cuivre. Elle représente une part importante du coût des consommables du CMP, domaine où les entreprises japonaises sont fortes.
Réponse : A. L'oxyde de cérium (cérine)
L'oxyde de cérium se lie chimiquement à l'oxyde et l'enlève efficacement, tandis que des additifs (tensioactifs comme les acides aminés) s'adsorbent sur la surface du nitrure et freinent son polissage ; la sélectivité oxyde/nitrure peut ainsi atteindre plusieurs dizaines à plus de 100. Il est utilisé dans le CMP des STI, où le nitrure sert de couche d'arrêt, pour concilier planéité et arrêt fiable du polissage. Il polit aussi rapidement avec peu de particules.
La suspension est une dispersion de particules abrasives de quelques dizaines à une centaine de nm et plus (silice (SiO2), oxyde de cérium (CeO2), alumine, etc.) dans une solution contenant oxydants, ajusteurs de pH, inhibiteurs de corrosion, dispersants, etc.
Quelle définition de la suspension (slurry) utilisée en CMP…L'oxyde de cérium se lie chimiquement à l'oxyde et l'enlève efficacement, tandis que des additifs (tensioactifs comme les acides aminés) s'adsorbent sur la surface du nitrure et freinent son polissage ; la sélectivité oxyde/nitrure peut ainsi atteindre plusieurs dizaines à plus de 100.
Pour le CMP de formation des STI, quelles particules abrasi…Le CMP à abrasif fixe utilise un tampon dans lequel des particules abrasives comme l'oxyde de cérium sont fixées dans une résine, et n'apporte qu'une solution chimique sans particules.
Quel type de CMP fixe les particules abrasives dans le tamp…CMP STI (isolation par tranchées peu profondes) Slurry (suspension de polissage) Sélectivité Acide fluorhydrique dilué (DHF) Conditionnement du tampon (pad conditioning) Dishing Effondrement de motifs (pattern collapse) Érosion Loi de Preston