Welk schuurdeeltje wordt bij het CMP van STI-vorming vaak gebruikt om de polijstselectiviteit van oxide ten opzichte van siliciumnitride hoog te maken?

Antwoord: A. Ceria (ceriumoxide)

Ceria (ceriumoxide) bindt chemisch met oxidefilm en polijst die efficiënt, terwijl additieven (oppervlakteactieve stoffen zoals aminozuren) op het nitrideoppervlak adsorberen en het polijsten daar onderdrukken, zodat de polijstselectiviteit van oxide ten opzichte van nitride kan oplopen tot enkele tientallen tot meer dan 100. Het wordt gebruikt om bij STI-CMP, waarbij nitridefilm als stopper dient, vlakheid te combineren met het gemakkelijk stoppen van het polijsten. Kenmerkend is ook dat met weinig deeltjes snel kan worden gepolijst.