セリア(酸化セリウム)とは
せりあ
CMPのスラリーに使われる研磨粒子。酸化膜と化学的に反応しやすく、窒化膜に対して高い選択比が得られるため、STIのCMPに使われる。
この用語の分野: CMP・洗浄
せりあ
CMPのスラリーに使われる研磨粒子。酸化膜と化学的に反応しやすく、窒化膜に対して高い選択比が得られるため、STIのCMPに使われる。
この用語の分野: CMP・洗浄
スラリーは、シリカ(SiO2)、セリア(CeO2)、アルミナなどの数十〜百数十nmの研磨粒子を、酸化剤、pH調整剤、防食剤、分散剤などを含む薬液に分散させたものです。
CMPで使うスラリーの説明として正しいものはどれか。セリア(酸化セリウム)は酸化膜と化学的に結合して効率よく削れる一方、添加剤(アミノ酸などの界面活性剤)が窒化膜の表面に吸着して研磨を抑えるため、窒化膜に対する酸化膜の研磨選択比を数十〜100以上にできます。
STI形成のCMPで、シリコン窒化膜に対する酸化膜の研磨選択比を高くするためによく使われる研磨粒子はどれか。固定砥粒CMPでは、セリアなどの研磨粒子を樹脂の中に固定したパッドを使い、粒子を含まない薬液だけを供給して研磨します。
研磨粒子をスラリーに入れる代わりに、研磨パッドの中に固定しておく方式のCMPはどれか。CMP スラリー STI(シャロートレンチ分離) 選択比 RCA洗浄 SC-2(HPM) SC-1(APM) SPM(硫酸過水) エロージョン 希フッ酸(DHF)